Intel открыла первый завод для крупносерийного производства чипов на базе 45нм процесса

Корпорация Intel открыла в г. Чэндлер, шт. Аризона, свой первый завод для крупносерийного производства продукции на базе 45-нанометрового (нм) производственного процесса.

Приведем несколько фактов об одном из самых передовых производственных предприятий в мире:

  • Инвестиции в Fab 32 составили 3 миллиарда долларов, строительство началось в августе 2005 года.

  • Fab 32 – шестой завод Intel, на котором используются кремниевые подложки диаметром 300 мм. Другие заводы расположены в Орегоне (2), Нью-Мексико, Аризоне (Fab 12) и Ирландии.

  • На заводах, которые выпускают продукцию на базе 300-мм подложек, расходуется на 40% меньше электроэнергии и воды на производство одной микросхемы по сравнению с 200-мм технологией.

  • Площадь нового завода составляет более 110 тыс. м2, что превышает совокупную площадь 17 полей для американского футбола. Площадь «чистой комнаты» предприятия составляет 19805 м2, или около трех полей для американского футбола.

  • При строительстве Fab 32 использовался третий в мире по величине подъемный кран для монтажа стропильных ферм. В строительстве принимали участие 3 тысячи рабочих, а объем работ составил более 8 миллионов человеко-часов.

  • В ходе строительства было израсходовано 19 тысяч тонн стали, 914 км кабелей, 120 км трубопроводов и 66 тысяч м3 бетона.

  • «Чистая комната» на заводе Fab 32 относится к «Классу 1», т. е. в пространстве объемом 0,28 м3 содержится не более одной частицы размером 0,5 микрона или больше. Напомним, что диаметр человеческого волоса равен 80 микронам. Для сравнения, операционные в больницах относятся к «Классу 10000», т. е. воздух в чистых помещениях Fab 32 корпорации Intel в 100 раз чище, чем в операционных. Для сравнения — наружный воздух можно отнести к «Классу 3 миллиона».

-->